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電鑄模具難脫模的三原因
a.噴銀法:系利用硝酸銀和強還原劑的反應結果,而使硝酸銀中的銀離子還原成銀原子,當光阻片已經敏化處理后,則銀原子會附著在光阻片上,而形成導電層,其優點在於處理迅速及操作方便、可做較大面積的光阻全 像片、價格便宜等等,但其膜層的厚度及均勻度、附著力大小等等不易控制,因此須有熟練的技巧和特殊的配方,才會有優良導電膜層。
b.化學沉積鎳:此方法可經由良好的控制而得到不錯的導電層,一般它須要在高溫浴之下進行反應,一但光阻片的處理不當,很容易在其過程之中,將使其光阻剝離或形成裂縫,且其將來的化學藥劑的廢棄處理亦是一大問題。
C.真空蒸鍍法:真空蒸鍍可說是最好的附著導電層處理方式,但是由於真空蒸鍍機的設備問題、操作技術及真空度要求等原因,使一般人較少使用。由於其鍍層的厚度及均勻度、附著力等等有最佳的品質控制,其厚度可控制在數百A之間,不會影響將來電鑄后的品質,甚至可得最佳的品質效果,且其蒸鍍耗材的消耗量也相當的小。